裕兴股份获得发明专利授权：“一种高透低雾光学基膜及其制备方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示裕兴股份（300305）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种高透低雾光学基膜及其制备方法”，专利申请号为CN202210942399.X，授权日为2024年5月31日。

专利摘要：本发明提供一种高透低雾光学基膜及其制备方法，涉及聚酯薄膜技术领域，所述高透低雾光学基膜包括依次层叠设置的A层、B层和C层；其中，B层的材质为特种聚酯；按照重量份数计，所述A层包括50?95份的特种聚酯和5?50份的开口母料；所述C层包括90?99份的特种聚酯和0?10份的开口母料；所述特种聚酯的特性粘度为0.70?0.80dL/g，熔点为255?265℃，端羧基含量为3?12mol/t。本发明提供的高透低雾光学基膜，通过采用特种聚酯作为聚酯薄膜的基料，降低聚酯薄膜加工过程中的结晶度，从而能够提高聚酯薄膜的光学性能，使得该光学基膜具有高透低雾的特性，能够满足聚酯薄膜日益提高的光学性能需求。

今年以来裕兴股份新获得专利授权8个，较去年同期增加了300%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了5876.55万元，同比减30.49%。

数据来源：企查查

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