中微公司获得发明专利授权：“零部件、形成耐等离子体涂层的方法和等离子体反应装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“零部件、形成耐等离子体涂层的方法和等离子体反应装置”，专利申请号为CN202010432447.1，授权日为2024年5月24日。

专利摘要：本发明适用于半导体技术领域，公开了一种用于等离子体反应装置中的零部件、零部件形成耐等离子体涂层的方法和等离子体反应装置。一种用于等离子体反应装置中的零部件，等离子体反应装置包括反应腔，反应腔内为等离子体环境，零部件暴露于等离子体环境中，零部件包括：非氧化物基底；耐等离子体涂层，耐等离子体涂层涂覆于非氧化物基底表面，耐等离子体涂层为稀土金属化合物，耐等离子体涂层和非氧化物基底之间通过饱和化学键过渡。本发明提供的零部件，在非氧化物基底与耐等离子体涂层之间的界面通过饱和的化学键实现过渡，降低耐等离子体涂层脱落的风险，提高耐等离子体涂层的服役寿命。

今年以来中微公司新获得专利授权67个，较去年同期增加了6.35%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8.17亿元，同比增34.91%。

数据来源：企查查

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