证券之星消息,根据企查查数据显示奥比中光(688322)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种深度成像系统”,专利申请号为CN202322410404.5,授权日为2024年5月3日。
专利摘要:本实用新型属于光学及电子技术领域,涉及一种深度成像系统,包括3D成像模组、第一电路板及第二电路板;3D成像模组,用于采集目标的图像数据;第一电路板,与3D成像模组电连接,第一电路板上设有第一处理芯片,第一处理芯片用于对图像数据进行前处理;第二电路板,与第一电路板电连接,第二电路板上设有第二处理芯片,第二处理芯片的算力高于第一处理芯片,第二处理芯片用于对经前处理后的图像数据进行深度计算,得到深度图像。通过在第一电路板上设置第一处理芯片对图像数据进行前处理,在第二电路板上设置第二处理芯片,对前处理后的图像数据进行计算得到深度图像,由此,得到的深度图像质量更高。
今年以来奥比中光新获得专利授权36个,较去年同期减少了47.83%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了3.01亿元,同比减20.96%。
数据来源:企查查
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