奥比中光获得发明专利授权：“一种处理直方图的方法、距离测量系统及距离测量设备”

证券之星消息，根据企查查数据显示奥比中光（688322）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种处理直方图的方法、距离测量系统及距离测量设备”，专利申请号为CN202011366401.0，授权日为2024年5月3日。

专利摘要：本发明公开了一种处理直方图的方法、距离测量系统及距离测量设备，包括步骤：S10、对原始直方图进行合并，处理获得第一飞行时间；S20、根据所述第一飞行时间计算环境光子均值；S30、基于所述环境光子均值对所述原始直方图进行处理获得第二直方图；S40、根据所述第二直方图计算飞行时间。本发明通过合并时间bin进行粗寻峰，在原始直方图上计算得到每个时间bin环境光的均值光子数，对去除环境光均值后的原始直方图进行粗算和细算，以获得飞行时间，最大程度地降低了信号光、环境光和器件噪声的影响，提高了测量精度。

今年以来奥比中光新获得专利授权34个，较去年同期减少了50.72%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了3.01亿元，同比减20.96%。

数据来源：企查查

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