TCL科技获得发明专利授权：“薄膜的制备方法和发光二极管”

证券之星消息，根据企查查数据显示TCL科技（000100）新获得一项发明专利授权，专利名为“薄膜的制备方法和发光二极管”，专利申请号为CN202010977465.8，授权日为2024年4月23日。

专利摘要：本申请涉及显示技术领域，提供了一种薄膜的制备方法和发光二极管。本申请提供的薄膜的制备方法包括：提供分散液、基质和第一惰性气体气氛，分散液包括p型半导体材料，第一惰性气体气氛掺杂有芳香族化合物，芳香族化合物能分散或溶解p型半导体材料；在第一惰性气体气氛下，将分散液在基质上进行成膜处理，形成薄膜。通过上述方法制得的薄膜表面平整致密，当应用于发光二极管的空穴功能层时，有利于改善空穴功能层的薄膜形貌，降低空穴功能层与发光层的界面电阻，从而提高器件的空穴传输效率，有效平衡器件的空穴传输效率和电子传输效率，进而提高器件的光电性能和工作寿命。

今年以来TCL科技新获得专利授权38个，较去年同期减少了9.52%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了48.92亿元，同比增9.9%。

数据来源：企查查

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成（网信算备310104345710301240019号），与本站立场无关，如数据存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。