晶合集成获得发明专利授权：“一种光刻图形的制造方法与制造系统”

证券之星消息，根据企查查数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种光刻图形的制造方法与制造系统”，专利申请号为CN202011032944.9，授权日为2024年4月12日。

专利摘要：本发明提出一种光刻图形的制造方法及制造系统，包括：在基底上形成一光刻胶；对所述光刻胶进行曝光处理，以在所述光刻胶上形成第一区和第二区；采用显影液对所述光刻胶进行多次显影处理，以使所述显影液去除所述第一区或所述第二区，以形成所述光刻图形；其中，所述显影处理包括：向所述光刻胶喷涂所述显影液；所述显影液与所述第一区或所述第二区反应。其中，向所述光刻胶喷涂所述显影液的过程至少包括第一喷涂过程，第二喷涂过程和第三喷涂过程；其中，在每次所述显影处理之后，还包括去除与所述第一区或所述第二区反应的所述显影液。本发明提出的光刻图形的制造方法可以避免光刻图形出现形貌缺陷。

今年以来晶合集成新获得专利授权93个，较去年同期增加了121.43%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了5.02亿元，同比增27.46%。

数据来源：企查查

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