利元亨获得实用新型专利授权：“一种射频电源多点馈入结构”

证券之星消息，根据企查查数据显示利元亨（688499）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种射频电源多点馈入结构”，专利申请号为CN202322021507.2，授权日为2024年3月15日。

专利摘要：本申请涉及离子体增强化学气相沉积设备技术领域，特别涉及一种射频电源多点馈入结构。包括射频电源、匹配器、工艺腔、以及设置于所述工艺腔的电极板，所述电极板上形成有若干个相互独立的馈入区域，每个所述馈入区域设置有连接于所述匹配器的馈入点，所述射频电源与所述匹配器连接。射频电源发出的射频电流经过匹配器传导至馈入点，射频电流通过馈入点传导至电极板上，通过将电极板分割为多个馈入区域，并在每个馈入区域通入射频电流，进而避免因电极板尺寸过大而带来的驻波影响，实现在较大的电极板面积内改善电场强度分布，从而保证硅片镀膜膜厚的均匀性。

今年以来利元亨新获得专利授权57个，较去年同期减少了24%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了2.77亿元，同比增33.57%。

数据来源：企查查

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