奥比中光获得发明专利授权：“一种消除屏下杂散光的方法、装置、屏下系统和存储介质”

证券之星消息，根据企查查数据显示奥比中光（688322）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种消除屏下杂散光的方法、装置、屏下系统和存储介质”，专利申请号为CN202110428771.0，授权日为2024年3月12日。

专利摘要：本申请适用于光学领域，提供了一种消除屏下杂散光的方法、装置、屏下系统和存储介质。其中，该消除屏下杂散光的方法包括：获取位于显示屏内侧的信号接收端接收到的回波信号；所述回波信号为位于所述显示屏内侧的信号发射端向所述显示屏外侧的目标区域发射第一光信号后，所述信号接收端接收到的光信号；获取所述第一光信号经所述显示屏反射和/或散射后所述信号接收端接收到的杂散光信号；基于所述回波信号和所述杂散光信号，计算所述目标区域对所述第一光信号进行反射的目标光信号。本申请的实施例提供的方法能够消除屏下杂散光，以提高深度测量值的准确性。

今年以来奥比中光新获得专利授权21个，较去年同期减少了4.55%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了1.68亿元，同比减13.04%。

数据来源：企查查

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