证券之星消息,根据企查查数据显示奥比中光(688322)新获得一项发明专利授权,专利名为“深度相机及其投影模组”,专利申请号为CN201810124556.X,授权日为2024年3月8日。
专利摘要:本发明公开了一种深度相机及其投影模组,该投影模组包括衬底;以规则晶格的形式排列在所述衬底上的光源;所述光源包括多个子光源,多个所述子光源排列构成多个子光源阵列,分别用于发射多个不规则的、疏密不同的光束阵列;所述子光源阵列由规则晶格上多个位置不同的所述子光源交错排列构成;透镜,用于准直或聚焦所述光束阵列,并向外发射与所述光束阵列相对应的斑点图案光束。本发明的投影模组不再以不规则晶格来设置光源,通过在一个规则晶格上设置的多个子光源构成的多个子光源阵列以分别发射多个不规则的、疏密不同的光束阵列,从而实现结构光的投影,降低了投影模组的设计、生产、制造成本。
今年以来奥比中光新获得专利授权15个,较去年同期减少了31.82%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了1.68亿元,同比减13.04%。
数据来源:企查查
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