证券之星消息,根据企查查数据显示苏大维格(300331)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种并行照明的接近式光刻系统”,专利申请号为CN202322284953.2,授权日为2024年3月8日。
专利摘要:本申请提供一种并行照明的接近式光刻系统。所述系统包括:件台、多个照明模组和多个投影模组;照明模组和投影模组一一对应。照明模组、投影模组、掩模版及基片沿光路依次设置,掩模版接近式的放置于基片的上方,控制模块与多个照明模组、多个投影模组和工件台电连接。通过采用多个照明模组和投影模组,以及掩模版接近式的放置于基片的上方,利用光源束腰形状与图形直边衍射的补偿效益,本申请的光刻系统的准直度比采用大面积光源的系统的准直度很好,可以消除或减少线宽的展宽,形成均匀曝光。光源的成像景深一般可大于100微米,掩模版接近式放置于基片上,无需进行图形的镜像翻转放大等处理,既有利于批量化,又能提升的图形的品质。
今年以来苏大维格新获得专利授权2个,与去年同期持平。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了5993.52万元,同比减7.75%。
数据来源:企查查
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