证券之星消息,根据企查查数据显示上海新阳(300236)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种清洗液的应用”,专利申请号为CN202211414101.4,授权日为2024年3月8日。
专利摘要:本发明公开了一种清洗液的应用。所述的清洗液可用于移除集成电路湿制程清洗工艺中的刻蚀或灰化后残留物;所述的清洗液由下述原料制得,所述的原料包括下列质量分数的组分:醇胺、5?20%羟胺、半胱氨酸、0.01?0.05%水溶性高分子、有机碱、螯合剂、缓蚀剂、羧酸铵、0.01?1%EO?PO聚合物L81、0.01?2%1?(苯并三氮唑?1?甲基)?1?(2?甲基苯并咪唑)以及水,水补足余量。本发明的清洗液可以清洗的残留物范围广,且一般对曝露的基板材料(例如,曝露的低k介质材料、金属氧化物、金属、金属氮化物及其合金)无腐蚀性,具有良好的应用前景。
今年以来上海新阳新获得专利授权21个,较去年同期增加了133.33%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了6400.07万元,同比增22.69%。
数据来源:企查查
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