上海新阳获得发明专利授权：“一种化学机械抛光后清洗液的应用”

证券之星消息，根据企查查数据显示上海新阳（300236）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种化学机械抛光后清洗液的应用”，专利申请号为CN202110926068.2，授权日为2024年2月2日。

专利摘要：本发明公开了一种化学机械抛光后清洗液的应用。具体公开了一种清洗液在清洗化学机械抛光后的半导体器件中的应用，所述清洗液的原料包括下列质量分数的组分：0.01％?25％的强碱、0.01％?30％的醇胺、0.001％?1％的抗氧化物、0.01％?0.1％的表面活性剂、0.01％?0.1％的氨基酸、0.01％?10％的缓蚀剂、0.01％?10％的螯合剂和水，水补足余量，各组分质量分数之和为100％；其中，所述的氨基酸为组氨酸和半胱氨酸的组合。本发明的清洗液具有更好地清除BTA的效果。

今年以来上海新阳新获得专利授权10个，较去年同期增加了66.67%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了6400.07万元，同比增22.69%。

数据来源：企查查

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