华海清科获得实用新型专利授权：“一种用于CMP的光学测量装置和化学机械抛光设备”_股票频道

证券之星消息，根据企查查数据显示华海清科（688120）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种用于CMP的光学测量装置和化学机械抛光设备”，专利申请号为CN202321754410.6，授权日为2024年1月26日。

专利摘要：本实用新型公开了一种用于CMP的光学测量装置和化学机械抛光设备，所述光学测量装置包括：在线光学测量组件和参考光学测量组件，所述在线光学测量组件包括用于测量晶圆的非金属膜厚的第一光学传感器和第一窗口，所述参考光学测量组件包括用于获得校准光强的第二光学传感器、第二窗口、校准片和遮挡组件。

今年以来华海清科新获得专利授权4个，较去年同期减少了55.56%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了1.39亿元，同比增63.98%。

数据来源：企查查

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