微导纳米获得发明专利授权：“基片处理设备及处理方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示微导纳米（688147）新获得一项发明专利授权，专利名为“基片处理设备及处理方法”，专利申请号为CN202310287020.0，授权日为2024年1月26日。

专利摘要：本申请公开了一种基片处理设备及处理方法，属于基片处理技术领域。基片处理设备包括腔体以及容置在腔体内的多个单元气室，多个单元气室上对应开设有开口，单元气室内分别通入有处理气体，当待沉积基片穿过开口在多个单元气室间移动时，每个单元气室内的处理气体均可对待沉积基片进行处理；腔体内通入有隔离气体，隔离气体不与处理气体发生反应，隔离气体用以阻止处理气体通过开口溢出。本申请所提供的基片处理设备，通过将多个彼此独立的单元气室容置在腔体内，使得各个单元气室内的处理气体无法相互接触而发生反应，从而避免在腔体内产生积粉。

今年以来微导纳米新获得专利授权2个，与去年同期持平。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了6390.04万元，同比增3.34%。

数据来源：企查查

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