和辉光电获得发明专利授权：“一种有机膜层结构及其制备方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示和辉光电（688538）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种有机膜层结构及其制备方法”，专利申请号为CN202111040541.3，授权日为2024年1月19日。

专利摘要：本发明提供一种有机膜层结构及其制备方法，涉及显示技术领域，包括：一主膜区域，主膜区域周向设有一边缘区域，边缘区域包括至少一回型子区域；主膜区域和边缘区域通过喷墨打印方式形成，且在喷墨打印之前，每个回型子区域预先配置有一喷墨打印线宽以及一喷墨打印填充比例。有益效果是有效改善有机膜层的边缘隆起，从而有效避免由于有机膜层的边缘隆起可能会引起边缘色差以及弯折测试时导致的无机膜层脱落，进而有效提升柔性显示产品封装效果。

今年以来和辉光电新获得专利授权2个，较去年同期减少了33.33%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了1.02亿元，同比增46.1%。

数据来源：企查查

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