金晶科技获得实用新型专利授权：“炉内残氧浓度稳定的窑炉”

证券之星消息，根据企查查数据显示金晶科技（600586）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“炉内残氧浓度稳定的窑炉”，专利申请号为CN202323309230.X，授权日为2024年1月5日。

专利摘要：本实用新型涉及窑炉设备技术领域，具体为炉内残氧浓度稳定的窑炉，包括窑炉，所述窑炉的一端固定安装有控制台，所述窑炉的一端固定安装有气罐，所述窑炉的顶部设置有多个检测组件及多个电磁阀，多个检测组件及多个电磁阀均与控制台电性连接，所述气罐的顶部设置有导气组件并通过导气组件与多个电磁阀连接。本实用新型通过电磁块进行通电使其产生磁场，从而驱动磁塞来带动密封头进行伸缩，实现对窑炉内部燃烧气体进行抽取，并且采用氧传感器对所抽取气体中氧气浓度进行检测，根据检测情况，通过控制电磁阀将气罐中的氧气输送至窑炉内部，保证内部氧气浓度处于一定值，从而有利于窑炉内产品的烧制成型。

今年以来金晶科技新获得专利授权5个。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了9263.82万元，同比增22.03%。

数据来源：企查查

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