华映科技获得实用新型专利授权：“一种inline式物理气相沉积溅射系统”

证券之星消息，根据企查查数据显示华映科技（000536）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种inline式物理气相沉积溅射系统”，专利申请号为CN202321828771.0，授权日为2024年1月5日。

专利摘要：本实用新型提供了一种inline式物理气相沉积溅射系统，其载台、玻璃基板及搬运装置设置在溅射腔室内，玻璃基板位于载台上；搬运装置包括第一固定磁铁、第二固定磁铁、第一电磁线圈和第二电磁线圈，二第一固定磁铁设置在载台底部两侧，二第二固定磁铁设置在载台两侧，二第一电磁线圈设置在溅射腔室底板上，并位于对应的第一固定磁铁下方，第一电磁线圈和对应第一固定磁铁之间的磁场极性相反；二第二电磁线圈设置在溅射腔室两侧壁上，且与第二固定磁铁一一对应；第一电磁线圈和第二电磁线圈四周均设置有磁场屏蔽层。本实用新型的搬运采用非接触式磁力搬送，避免了直接接触产生的金属碎屑及后续更换易损部件的问题，提升了产品品质和生产产能。

今年以来华映科技新获得专利授权2个。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了9516.39万元，同比减20.46%。

数据来源：企查查

以上内容由证券之星根据公开信息整理，由算法生成，与本站立场无关。证券之星力求但不保证该信息（包括但不限于文字、视频、音频、数据及图表）全部或者部分内容的的准确性、完整性、有效性、及时性等，如存在问题请联系我们。本文为数据整理，不对您构成任何投资建议，投资有风险，请谨慎决策。