智立方获得实用新型专利授权：“一种晶圆背面吸附装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示智立方（301312）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种晶圆背面吸附装置”，专利申请号为CN202321975649.6，授权日为2024年1月5日。

专利摘要：本实用新型涉及晶圆检测辅助技术领域，具体为一种晶圆背面吸附装置，包括无刷电机，所述无刷电机的驱动端设置有连接板，所述连接板的底部通过螺栓连接有吸盘安装框，吸盘设置于所述吸盘安装框上，所述吸盘的中心处开设有可直接检测晶圆背面的检测口，所述吸盘的表面设置有真空柱，所述真空柱的一端设置有真空接头，所述真空柱的内部开设有真空通道。该晶圆背面吸附装置，通过吸盘上检测口的设置，可以在检测时，不会遮挡晶圆背面，还可以在晶圆背面进行打光检测，辅助检测设备对晶圆进行两面检测，提高了检测效率，通过吸嘴的设置，可以使该装置兼容晶圆3mm以内的翘曲度变形，还不会影响晶圆的吸附稳定性。

今年以来智立方新获得专利授权2个。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了3149.9万元，同比增40.6%。

数据来源：企查查

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