东尼电子获得实用新型专利授权：“一种蒸镀腔体结构”

证券之星消息，根据企查查数据显示东尼电子（603595）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种蒸镀腔体结构”，专利申请号为CN202321824934.8，授权日为2023年12月29日。

专利摘要：本实用新型提供了一种蒸镀腔体结构，包括底柜，底柜顶部左侧固定连接有收放卷箱，底柜顶部位于收放卷箱右侧固定连接有蒸镀腔体，蒸镀腔体前侧设有密封盖二，蒸镀腔体内部设有两组呈上下设置的微槽坩埚，微槽坩埚底部固定连接有低温性感应蒸发源，本实用新型通过蒸镀腔体、微槽坩埚和低温性感应蒸发源配合使用，由于蒸镀设备在一定温度和饱和平衡状态下，分子不断地从冷凝液相或固相表面蒸发，PI/PET/PP薄膜在真空条件下物质的蒸发比在常压下容易得多，所需的蒸发温度也大幅度下降，因此熔化蒸发过程缩短，蒸发效率明显地提高。

今年以来东尼电子新获得专利授权15个，与去年同期持平。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了7182.25万元，同比增57.46%。

数据来源：企查查

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