同兴达获得实用新型专利授权：“一种辅料结构”

证券之星消息，根据企查查数据显示同兴达（002845）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种辅料结构”，专利申请号为CN202321558927.8，授权日为2023年12月12日。

专利摘要：本实用新型公开一种辅料结构，包括：石墨片本体和贴附在所述石墨片本体上的保护膜，所述石墨片本体上设有若干通孔，所述通孔的直径为2mm，横向相邻的两个所述通孔间的横向距离为25mm?30mm，竖向相邻的两个所述通孔间的竖向距离为10mm?15mm，所述石墨片本体包括排气胶层，所述保护膜上形成有撕手部，所述撕手部上设有两条相交叉的切断线。本实用新型的有益效果在于：可以解决保护膜难撕的问题，提升作业效率；可以解决贴铜箔产生的气泡、鼓包等问题，提升产品的良率。

今年以来同兴达新获得专利授权110个，较去年同期增加了37.5%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了1.6亿元，同比增2.42%。

数据来源：企查查

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