国林科技(300786)答投资者问
2025/12/16 16:44
请问目前ald的两种路径，一种是水蒸气作为氧源，一种是臭氧作为氧源，均为与tma前驱体反应实现薄膜沉积。目前主流传统是采取水蒸气方式。请问公司所采取…
尊敬的投资者，您好。臭氧应用于ALD先进制程相较水蒸气优势在于：薄膜纯度更高、杂质更少，致密度与均匀性更佳；低温适配性强，能渗透复杂 3D 结构，且…
公司的半导体设备是直接被存储芯片制造商购买，然后直接在存储芯片产线上使用吗？
尊敬的投资者，您好。国林半导体公司所生产的半导体专用臭氧气体设备及机能水设备等产品，主要为设备商提供配套服务，与主机设备一同供应至终端客户。目前，该…
请问公司在存储芯片领域的业务，是存储芯片制造商直接采购贵司的产品设备用以制造生产存储芯片？还是贵司先给北方华创、盛美上海等这样的半导体设备厂商提供零…
2025/12/16 16:38
原子级制造目前主流的技术为原子层刻蚀ale和原子层沉积ald，而臭氧在ale和ald中均发挥了重要作用。公司作为国内半导体臭氧设备的领先企业，能否分…
尊敬的投资者，您好。二者核心差异是作用相反，且均依托自限性循环：臭氧在 ALD 中作氧前驱体，与 TMA 等反应沉积单原子层氧化物薄膜；在 ALE …
2025/12/15 16:21
公司12.10日股东数？
尊敬的投资者，您好。截至2025年12月10日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计23,387人。感谢您的关注。
2025/12/05 16:38
公司能对日本在半导体优势领域的半导体设备形成国产替代吗？
尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目…
公司在光刻胶清洗领域，是否对日本先进半导体设备（例如日本住友）形成国产替代？
2025/12/05 16:37
公司的半导体臭氧水设备和机能水设备是否已经通过验证？正式进入批量供货阶段。
尊敬的投资者，您好。目前，国林半导体公司通过自主研发技术取得了阶段性成果:半导体湿法清洗工艺用臭氧水以及其他配套功能水设备现有客户已经全部验证通过，…
公司参与了商业航天火箭推进剂废水处理吗？有何技术亮点？目前国内商业航天客户对公司的推进剂废水处理技术需求情况如何？
尊敬的投资者，您好。公司产品有火箭推进剂废水处理应用业绩，但其占公司主营业务收入比重较低，具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。
公司在存储芯片专用设备上的技术处于国内什么水准？对比国外优势巨头，差距有多少？
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