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刻蚀设备不断突破,新品研发快速推进

来源:国金证券 作者:樊志远,赵晋 2023-08-25 11:01:00
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(以下内容从国金证券《刻蚀设备不断突破,新品研发快速推进》研报附件原文摘录)
中微公司(688012)
业绩简评
2023 年 8 月 24 日公司发布半年报, 2023 年上半年营收 25.3 亿元, 同比增长 28%; 实现归母净利润 10 亿元, 同比增长 114%; 实
现扣非净利润 5.2 亿元, 同比增长 18%。单 Q2 营收 13 亿元, 同比增长 27%; 实现归母净利润 7.3 亿元, 同比增长 108%; 实现扣非净利润 2.9 亿元, 同比增长 14.5%。
经营分析
公司上半年刻蚀设备收入 17 亿元, 同比增长 32.5%,关键客户市场占有率不断提高; MOCVD 设备实现收入 3 亿元, 同比增长 24%;备品备件及服务收入 5 亿元, 同比增长 17%。二季度非经常收益较高主要归因于公司于 2023 年上半年出售了部分持有的拓荆科技股票,产生税后净收益约 4 亿元。
刻蚀机: 已有的产品已经对 28 纳米以上的绝大部分 CCP 刻蚀应用和 28 纳米及以下的大部分 CCP 刻蚀应用形成较为全面的覆盖。 高深宽比设备快速进展, 公司致力于提供超高深宽比掩膜(≥40:1)和超高深宽比介质刻蚀(≥60:1)的全套解决方案, 开发了用于超高深宽比掩膜的刻蚀的 ICP 刻蚀机, 和用于超高深宽比介质刻蚀的 CCP 刻蚀机。这两种设备都已经开展现场验证,目前进展顺利。随着新的 ICP 产品不断推出,公司在先进逻辑芯片、先进 DRAM 和3D NAND 的 ICP 验证刻蚀工艺覆盖率有望扩展到 50%-70%不等。
薄膜沉积: 公司首台 CVD 钨设备去年底付运到关键存储客户端验证评估,进一步开发新型号 CVD 钨和 ALD 钨设备已通过关键客户实验室测试,首台量产验证机已在客户端进行测试。 EPI 外延设备正处于工艺调试和客户验证阶段。公司推出了用于氮化镓功率器件生产的 MOCVD 设备 Prismo PD5,目前已交付国内外领先客户进行生产验证,并取得了重复订单。公司也启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发, 2023 年内交付样机至客户端开展生产验证。
盈利预测、估值与评级
预计公司 2023-25 年营收 61/74/94 亿元,同比增长 29%/22%/27%;归母净利润 17.1/17.5/22.2 亿元,同比增长 46%/2%/27%,对应P/E 为 52/51/40 倍,维持“买入”评级。
风险提示
半导体周期波动,下游晶圆厂扩产不及预期,新产品进展速度不及预期风险





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