(原标题:[路演]苏大维格业绩说明会:创新驱动业绩增长 聚焦微纳光学技术商业化应用)
苏大维格(300331)2023年度网上业绩说明会于2024年5月14日在全景路演举办。就投资者关于“公司2023年研发投入增加原因”的提问,董事、副总裁、董秘蒋林表示,公司一贯重视技术与产品的原发性创新及产业化推广,并长期维持较高强度的研发与产业化推广工作。
现阶段,公司正重点拓展微纳光学技术/产品在国家票据和证件防伪材料、电子纸和反射式液晶前光材料、AR/MR和AR-HUD衍射光学材料、定位光栅尺材料,以及光刻设备在光伏铜电镀图形化设备、高端掩模、光子芯片、光通信器件等领域的商业化应用和产业化投资,在自主掌握核心技术的领域积极挖掘新的业务和利润增长点,争取实现良好的业绩,以期通过企业长期价值增长回报股东。
公司长期坚持原发性创新研究,在微纳光学制造领域经过多年的研究与开发,积累了多项拥有自主知识产权的核心技术。截至报告期末,公司已取得683项专利授权,其中发明专利180项,实用新型专利458项,外观设计专利45项。基于光刻设备控制软件的研究,公司设计开发了一系列专业光刻与图像处理软件。
公开资料显示,苏大维格致力于微纳关键技术、柔性智能制造、柔性光电子材料的创新应用,是国家高新技术企业,国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商,主要从事微纳结构产品的设计、开发与制造,关键制造设备的研制和相关技术研发服务。(全景网)
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