中微公司获得实用新型专利授权：“等离子体约束结构及等离子体处理设备”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“等离子体约束结构及等离子体处理设备”，专利申请号为CN202522492192.9，授权日为2026年11月10日。

专利摘要：本实用新型提供一种等离子体约束结构及等离子体处理设备。等离子体约束结构围绕在反应腔内基座的外周，包括：约束环，约束环为硅基材质且形成有气体通道；接地环，贴合于约束环的下游侧，接地环的电阻率小于约束环的电阻率，其中下游侧为约束环靠近反应腔内排气区域的一侧；连接环，贴合于约束环的第一侧；接地环的第一侧和连接环通过第一连接件固定在反应腔内的接地端，接地环的第二侧和约束环的第二侧通过第二连接件固定在接地端，约束环/接地环的第一侧为约束环/接地环靠近或远离基座的一侧；约束环/接地环的第二侧为约束环/接地环远离或靠近基座的一侧。本实用新型通过设置电阻率更小的接地环使硅基约束环接地，从而降低射频回路的阻抗。

今年以来中微公司新获得专利授权145个，较去年同期增加了4.32%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了13.1亿元，同比增17.31%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了31家企业，参与招投标项目95次；财产线索方面有商标信息131条，专利信息1775条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可89个。

数据来源：企查查

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