中微公司获得发明专利授权：“原子层沉积设备及其维护方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“原子层沉积设备及其维护方法”，专利申请号为CN202310443658.9，授权日为2026年9月8日。

专利摘要：本发明公开一种原子层沉积设备及其维护方法，该原子层沉积设备包括：反应腔，其包括腔体和顶盖；基座，设置于腔体底部；喷淋头，设置于顶盖底面；气体输送系统，其包括：若干个气体源，用于供应沉积过程中使用的气体；导气装置，设置于顶盖上，用于向喷淋头供应气体；若干个阀门，每一阀门包括与气体源连接的入口端及与导气装置连接的出口端；阀门在顶盖所在平面的正投影至少部分与顶盖重合且与导气装置在该平面的正投影不重合。本发明通过限制阀门与导气装置之间的位置关系，在断开阀门与导气装置之间的连接对设备进行维护时，能够缩短维护后吹扫管道的清洁时间，同时在工艺过程中能够保证气体供给的响应时间等性能，提高原子层沉积质量与效率。

今年以来中微公司新获得专利授权116个，与去年同期持平。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了13.1亿元，同比增17.31%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了31家企业，参与招投标项目92次；财产线索方面有商标信息131条，专利信息1745条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可88个。

数据来源：天眼查APP

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