屹唐股份：公司的干法去胶设备在全球范围内的集成电路制造产线中具有广泛应用

证券之星消息，屹唐股份(688729)06月08日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者：请问尊敬的董秘：一、公司的股价持续下跌，公司的市值管理工作是如何开展的？二、请详细介绍一下公司的业务和产品以及正在研发的新产品都有哪些？都各自可以具体应用到哪些方面和领域？三、公司的资本运作情况如何？都具体参股了哪些公司？购买了哪些优质资产？四、请问公司在行业当中的优势以及未来发展前景、空间和方向如何？谢谢！
屹唐股份董秘：尊敬的投资者，您好！公司将聚焦主业发展，坚持自主创新，不断增强公司产品的市场竞争力，并持续优化公司运营管理，促进公司高质量、稳健、快速的发展，夯实内在价值。 公司主要向存储芯片制造厂商、逻辑电路制造厂商、功率器件制造厂商等集成电路制造厂商和硅片制造厂商销售干法去胶、快速热处理、干法刻蚀及等离子体表面处理设备，每一款产品的具体应用领域详见公司2025年年度报告。 公司在研项目包括先进干法去胶设备、新一代常压快速热处理设备、先进低压快速热处理设备、先进等离子体表面处理和材料改性设备等多款设备，主要应用于逻辑芯片、存储芯片等集成电路制造领域，公司在研项目及每个项目具体的应用前景，详见公司2025年年度报告。 公司将按照相关法律法规规定，及时披露公司的资本运作情况，请您关注公司披露的定期报告及相关临时公告。 公司的干法去胶设备在全球范围内的集成电路制造产线中具有广泛应用，设备工艺效果优异，具备颗粒污染低、连续生产时间长、大规模量产综合持有成本低等卓越性能，可满足各类制程工艺需求，尤其是在先进逻辑、先进存储及特色工艺芯片制造领域更具有竞争优势。2025年公司凭借33.7%的市场占有率位居全球第二，确立了在干法去胶设备细分市场中国际领先的行业地位，公司的去胶设备在国内市场亦占据领先地位。 公司的常压快速热处理设备采用晶圆双面辐射加热技术，具有温度均匀性好、有效减少晶圆热应力和图形效应、加热速度快、产出高等优势；毫秒级退火设备采用受专利保护的水壁氩气弧灯技术，具有优异的晶圆温度控制能力，独特的脉冲持续时间调整功能和一体式尖峰退火、闪光毫秒级退火功能相结合，提供了广泛的工艺应用。2025年，公司占有的全球快速热处理市场份额为13.8%，在闪光退火设备领域市场份额位居全球第二。 公司的刻蚀设备采用电感耦合等离子体（Inductively Coupled Plasma，简称ICP）技术实现离子能量与密度的独立控制，具备刻蚀速度快、产能高、使用成本低、等离子体损伤低等优势；高选择比刻蚀设备、等离子体表面处理设备基于业界领先的远程等离子体与离子辅助控制技术，可满足先进芯片制造中多道尖端刻蚀和原子层级晶圆表面处理要求。公司的干法刻蚀设备和等离子体表面处理相关设备已应用于国内外知名存储芯片和逻辑芯片制造企业客户，销售收入持续快速增长。

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