普达特科技（00650.HK）2025年中期管理层讨论与分析

证券之星消息，近期普达特科技（00650.HK）发布2025年中期财务报告，报告中的管理层讨论与分析如下：

业务回顾：

我们的半导体设备业务:
      报告期间,本公司的半导体设备产业化持续取得了进展,尤其在市场扩展与订单质量方面。半导体清洗设备方面,本公司取得7台新订单,其中既有来自老客户的重复订单,也有来自高质量新客户的新订单;该等设备订单中,包含了一台用于先进半导体清洗工艺的高温硫酸清洗(「HTSPM」)设备;该等订单部分已经成功交付至客户。应用于多种12寸半导体关键薄膜沉积工艺的低压化学相沉积(「LPCVD」)设备取得了2台新订单,并均已成功交付至客户。随着本公司先进机型陆续取得订单与成功交付,本公司的量产实绩正在得到不断积累与验证。
      CUBE/QUADRA单片清洗设备:可覆盖6-12英寸硅晶圆与SiC晶圆应用,具备超薄晶圆的处理能力、业界领先的伯努利传输与晶圆边缘管控技术。报告期间,本公司获得4台CUBE新订单,包含来自功率器件老客户的重复订单。同时,CUBE设备的发货与验收也在持续进行。
      OCTOPUS单片清洗设备:应用于12寸晶圆规模化产线。该设备平台对标国际龙头设备供应商,覆盖单片清洗的主要工艺,且具备更高的产能、更灵活的工业配置与更低的成本。在产业化方面,该设备在上一财年成功通过验收的基础上,本公司又获得4台新订单,且服务于重要客户的关键应用,例如其中两台将用于一家12英寸晶圆代工厂客户,服务于28nm制程的关键清洗道次。这些订单中亦包含一台针对先进半导体工艺中高温硫酸清洗的HTSPM设备,该设备部分性能指标达到国家领先水平,显着推进了国产高温SPM清洗设备打破海外垄断的进程。
      Parallelo槽式清洗设备:应用于12寸晶圆槽式清洗工艺,可实现业界领先的表面污染控制,具备更灵活的配置与更高的产能。第一台装置目前正处于开发与测试阶段,即将成为对本公司清洗设备产品组合的有力补充。
      此外,本公司致力于发挥技术团队在半导体湿法工艺与设备方面的独特优势,正在针对半导体行业新的发展趋势,开发具备创新性与高性价比的湿法设备,以解决行业痛点,提升客户效能。
      LPCVD设备平台:LPCVD设备平台,应用于12英寸晶圆的关键薄膜沉积工艺。本公司已就该设备获得两台样机订单,分别针对LP-SiN与ALD-SiN两类工艺,已成功交付至客户。另外,应用于LP-POLY、ALD-SiOCN薄膜沉积工艺的设备,已顺利完成主要的开发工程,即将进入产业化阶段。相比国内的同类设备,该等设备在技术上可实现更高的填充深宽比、均匀性、台阶覆盖率与更低的污染,此外,该等设备拥有更高的批次生产效率,且具备多种工艺选择的兼容性。相比海外供应商的同类设备,该等设备具有同等水平的技术性能与更优的性价比,可为客户提供更具综合竞争力的解决方案。
      我们的太阳能设备业务:
      本公司Batch槽式清洗设备与Inline链式清洗设备,在TOPCon和背接触(BC)电池应用方面有丰富的量产经验,服务客户覆盖国内主流太阳能电池片厂商。通过设备的创新迭代与运营的降本增效,本公司将更好地服务于不断发展的客户需求,并降低行业波动对业务的影响。
      InCellPlate铜电镀设备,应用于取代银浆的金属化工艺环节,本公司链式水平电镀设备起步较早,具备更大的电流密度与更高的沉积速度,经过与客户共同的开发测试,已积累较多应用经验,具有很高的客户认可度;本设备覆盖BC、TOPCon、HJT等工艺路线,助推行业的无银化技术趋势,帮助客户降本增效。
      直至本中期业绩公告日期,本公司已有4.48亿港元的在手订单储备,该等订单均尚未确认收入。与此同时,本公司正在积极拓展市场,以获取更多的新订单,保持良好的业务发展态势。展望未来,凭藉丰富的订单储备与设备验收通道,不断优化的成本费用,本公司有望实现更好的利润表现。本公司在持续技术创新、市场开拓正朝着更高的目标不断前进。

业务展望：

本公司始终将半导体与太阳能电池产业视为全球主要增长动力,并持续专注于开发高生产力清洗及薄膜设备解决方案,以支持客户的技术升级与成本竞争力。
      在半导体领域,地缘政治的不确定性与出口管制持续重塑全球供应链,推动中国关键工艺设备的本土化进程加速。此结构性转变带动国内晶圆制造能力持续扩张,尤其于成熟与特殊工艺节点。本公司预期此增长势头将于二零二五年下半年延续,为具备验证技术与交付能力的本土设备供应商提供稳定机遇。本集团将持续深化客户合作并提升设备性能,以支持其半导体清洗及LPCVD系统的大规模应用。
      在太阳能电池领域,行业调整在二零二五年持续,因制造商在产能快速扩张下面临加剧的竞争与利润压力。尽管如此,在均化电力成本与转换效率持续改善的驱动,长期基本面依然稳固。TOPCon及BC等技术持续主导新增产能,而异质结与铜电镀等新兴工艺路线正吸引早期投资。本公司将专注于优化现有设备平台的生产效率与稳定性,深化与主要电池制造商的合作,并进行技术储备以把握下一轮技术迁移契机。
      在能源业务领域,二零二五年全球油价保持相对稳定。受OPEC+持续减产及新兴市场需求韧性的支撑,布伦特原油前三季度维持于平均每桶约80美元。供应方面,非OPEC+产油国(特别是美国、巴西及圭亚那)的产量增长有效平衡市场并缓和波动。然而,主要产区的地缘政治紧张局势,仍持续构成供应出现间歇性中断的风险。在此背景下,本公司将透过加强运用对冲工具及优化资产配置,进一步完善风险管理框架。同时,本公司将持续提升营运效率并扩充产能,以把握市场价格走势良好期间的潜在收益。
      本公司之长期愿景是成为此等市场领域的领导者,并于未来十年在半导体清洗设备及LPCVD设备领域占据重大全球市场份额。我们的中短期目标如下:1.专注于巩固及发展现有半导体清洗设备市场,尽快建立稳定增长的业务;2.推出高性能半导体LPCVD设备并完成其产业化验证与量产;3.成功完成关键工艺与创新技术的开发并实现其商业化应用。

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