截至2025年9月18日收盘,国林科技(300786)报收于16.22元,下跌0.8%,换手率18.0%,成交量26.4万手,成交额4.34亿元。
投资者: 多重曝光,意味着需要多次沉积、光刻、清洗,对晶圆沉积、光刻胶、(硬)掩膜板以及清洗的需求都会大幅增加。例如:自对准四重曝光的前提是完成四层沉积。请问公司产品能否满足多重曝光(N+2、N+3)工艺对应的多次沉积和清洗的技术需求?
董秘: 尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程,子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。
投资者: 芯片光刻制造过程中的多重曝光需要清洗次数增加,对清洗洁净度有更高要求,请问公司的半导体臭氧设备能满足多重曝光工艺的适配需求吗?
董秘: 尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程,子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。
9月18日主力资金净流出2956.77万元;游资资金净流出1224.0万元;散户资金净流入4180.76万元。
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