证券之星消息，根据天眼查APP数据显示广立微（301095）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种光刻通孔热点识别方法”，专利申请号为CN202110263882.0，授权日为2025年6月17日。
专利摘要：本发明提供了一种光刻通孔热点识别方法，包括获取版图信息；将用于连接所述连接层的通孔层的V0的侧边分别向外移动，将移动至触及相邻切断层图形的侧边扫过的矩形区域识别为扩充区；获取所述V0周围的扩充区数量，并根据V0周围的扩充区数量来识别所述V0是否为光刻通孔热点。能够实现方便、有效和快捷地对用于版图设计热点的搜索与分析。过程简洁，识别结果直观准确，有利于生产工艺的改进和效率提高。
今年以来广立微新获得专利授权39个，较去年同期增加了62.5%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.77亿元，同比增33.49%。
数据来源：天眼查APP
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