晶合集成获得发明专利授权：“背照式图像传感器及其制备方法、电子设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“背照式图像传感器及其制备方法、电子设备”，专利申请号为CN202411748044.2，授权日为2025年3月28日。

专利摘要：本申请涉及一种背照式图像传感器及其制备方法、电子设备，涉及集成电路技术领域，包括衬底以及位于衬底的第一表面上且沿平行于第一表面的第一方向交替排布，且朝向衬底延伸的光电二极管、叠层目标隔离结构；衬底内包括经由第一表面向衬底内延伸，且沿第一方向间隔排布的多个沟槽隔离结构；沟槽隔离结构与其正上方叠层目标隔离结构一对一设置；叠层目标隔离结构包括沿背离衬底的第二方向依次交替层叠的隔离部、绝缘部；光电二极管包括沿第二方向依次层叠且纵截面均呈“T”状的至少两层光敏层，其中，一光敏层接触衬底第一表面，能够避免离子注入造成的衬底损伤的同时，提高光电转化效率以及量子效率。

今年以来晶合集成新获得专利授权81个，较去年同期增加了26.56%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

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