晶合集成获得发明专利授权：“图像传感器及其制备方法、电子设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“图像传感器及其制备方法、电子设备”，专利申请号为CN202411750648.0，授权日为2025年3月28日。

专利摘要：本申请涉及一种图像传感器及其制备方法、电子设备，包括：包括衬底、多个隔离结构以及多个光电二极管，隔离结构间隔设置在衬底内，光电二极管设置在相邻的隔离结构之间，隔离结构包括：第一隔离层，位于衬底内；第一高介电常数介质层，位于第一隔离层远离衬底的一侧；反射层，位于第一高介电常数介质层远离第一隔离层的一侧；第二高介电常数介质层，位于反射层远离第一高介电常数介质层的一侧；其中，反射层至少与第一高介电常数介质层或者第二高介电常数介质层中的一个具有相同的元素。本申请的图像传感器可以避免第二高介电常数介质层聚集在隔离结构底部的情况发生，提高了隔离结构侧壁的均匀性，从而提高了反射效率。

今年以来晶合集成新获得专利授权81个，较去年同期增加了26.56%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了6.14亿元，同比增22.27%。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由智能算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。