深天马Ａ获得发明专利授权：“半导体装置及其制造方法和显示设备及其制造方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示深天马Ａ（000050）新获得一项发明专利授权，专利名为“半导体装置及其制造方法和显示设备及其制造方法”，专利申请号为CN201710805361.7，授权日为2025年2月25日。

专利摘要：本发明涉及半导体装置及其制造方法和显示设备及其制造方法。半导体装置包括：绝缘基板；多晶硅层；第一栅极绝缘层；第一金属层；氧化物半导体层；第二栅极绝缘层；第二金属层；第一层间绝缘层；第三金属层；第一薄膜晶体管，其将多晶硅层用作沟道并具有源极、漏极及栅极；以及第二薄膜晶体管，其将氧化物半导体层用作沟道并具有源极、漏极及栅极，第一薄膜晶体管的栅极由第一金属层构成，第二薄膜晶体管的栅极由第二金属层构成，第一薄膜晶体管的源极和漏极以及第二薄膜晶体管的源极和漏极由第三金属层构成，第一薄膜晶体管的源极或漏极和第二薄膜晶体管的栅极相互电连接。

今年以来深天马Ａ新获得专利授权3个，与去年同期持平。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了15.42亿元，同比增5.68%。

数据来源：天眼查APP

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