和远气体公告,公司近日取得1项发明专利,名称为“一种半导体用超高纯氯化氢气体的制备装置及其工艺”。该专利采用高分子渗透膜、金属阳离子交换树脂、稀土金属化合物脱水与高压精馏的结合,可将组分中CO2杂质脱除至0.1ppm以下、金属离子含量脱除至10ppt以下。该专利的取得不会对公司的生产经营和经营业绩产生重大影响,但有利于公司在电子特气领域的技术储备与技术提升,对公司在电子特气领域进一步发展提供技术支持。
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