ST华微获得实用新型专利授权：“一种磁控溅射靶座及磁控溅射设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示ST华微（600360）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种磁控溅射靶座及磁控溅射设备”，专利申请号为CN202323326619.5，授权日为2024年12月24日。

专利摘要：本申请公开了一种磁控溅射靶座及磁控溅射设备，涉及靶座技术领域。用于解决现有技术中磁控溅射靶座为一体成型，从而增加了制造磁控溅射靶座成本的问题。所述靶座包括靶座本体、导电环、封环和电源；靶座本体上开有镶嵌槽和安装腔，安装腔用于安装靶材，导电环安装在镶嵌槽内，导电环用于固定靶材；封环安装在靶座本体上并覆盖至少部分导电环，封环用于使靶座本体与靶材之间绝缘；电源安装在靶座本体上，电源用于为靶座本体供电。本申请将靶座本体、导电环和封环分体式设置，将靶座本体、导电环和封环分别制备再进行组装，即可制造出该靶座，从而可以极大地降低该靶座的复杂度，进而可以降低该靶座的成本。

今年以来ST华微新获得专利授权23个，较去年同期减少了37.84%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了6046.38万元，同比增13.15%。

数据来源：天眼查APP

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