奥普光电获得发明专利授权：“不均匀光照图像校正方法”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示奥普光电（002338）新获得一项发明专利授权，专利名为“不均匀光照图像校正方法”，专利申请号为CN202311133170.2，授权日为2024年11月5日。

专利摘要：本发明涉及图像处理技术领域，尤其涉及一种基于FPGA的不均匀光照图像校正方法，主要包括不均匀光照图像的读取和存储；图像的转换和去噪；使用OTSU得到最大类间方差g和阈值T1，并进行背景C0和前景C1的分割；对前景C1进行Sauvola算法操作，在局部窗口内计算得到阈值T2，并进行图像分割，得到局部细节；将背景C0和前景C1合并，得到亮度调节后的增强图像，将增强图像转换回RGB彩色图像，并发送到输出接口实现图像的输出。将OTSU算法和Sauvola算法的结合，能够分别对整体和前景进行精确校正，消除光照差异所引起的图像问题；在FPGA上实现可以大幅提高图像处理的速度和吞吐量，适用于对实时性要求较高的应用场景。

今年以来奥普光电新获得专利授权17个，较去年同期增加了240%。结合公司2024年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了3637.28万元，同比增12.66%。

数据来源：天眼查APP

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