山东赫达获得发明专利授权：“一种量子点/HPMC/卤氧化铋复合材料及其制备方法和应用”

证券之星消息，根据企查查数据显示山东赫达（002810）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种量子点/HPMC/卤氧化铋复合材料及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202311833520.6，授权日为2024年2月27日。

专利摘要：本发明提供一种量子点/HPMC/卤氧化铋复合材料及其制备方法和应用，属于有机?无机复合材料技术领域，包含卤氧化铋、HPMC和量子点颗粒，所述HPMC紧密包裹在卤氧化铋纳米片的表面，并通过HPMC将量子点颗粒紧密粘附在卤氧化铋纳米片表面；通过液相剥离法从块体中提取出量子点溶液，将HPMC溶于量子点溶液中，得到黏性胶液A，将卤氧化铋粉体分散于胶液A中，进行超声后搅拌，得到悬浊胶液B，最后经过烘干、粉碎等步骤得到成品。本发明复合材料能够显著提升光生载流子的转移效率，且构建的异质结结构结合紧密、不易脱落，同时制备方法精简，原材料易得、安全。

今年以来山东赫达新获得专利授权2个。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了3246.51万元，同比减14.37%。

数据来源：企查查

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