红宝丽：具体工艺条件下有何功效，如何发挥功效，请您咨询光刻胶行业企业

红 宝 丽(002165)09月18日在投资者关系平台上答复了投资者关心的问题。

投资者：异丙醇胺通常用作一种化学清洗剂，它能够有效地溶解和去除光刻胶的残留物。清洗光刻胶残留的过程通常包括以下步骤：1. 涂覆光刻胶：首先，在硅片或其他基材上涂覆光刻胶，然后通过光刻工艺将所需的图案传输到光刻胶上。2.曝光和显影：进行曝光后，光刻胶会发生化学变化，然后使用显影过程去除未曝光的部分，留下所需的图案。3. 清洗：清洗步骤涉及将硅片浸泡在异丙醇胺或其他合适的清洗溶液中。异丙醇胺会溶解

红 宝 丽董秘：您做了不少功课，谢谢您关注！

投资者：清洗光刻胶残留是微电子制造过程中的关键步骤之一，因为残留的光刻胶可以影响电子器件的性能和可靠性。昇丙醇胺在这个过程中被广泛使用，因为它对光刻胶具有良好的溶解性能，并且在适当的工艺条件下可以高效地清洗？

红 宝 丽董秘：具体工艺条件下有何功效，如何发挥功效，请您咨询光刻胶行业企业。谢谢！

投资者：董秘您好，根据贵司报告，贵司在建的环氧丙烷项目用的是共氧法项目，请问具体将会是哪种催化剂，比如乙苯还是异丁烷等？如果共氧法产生较多联合物，贵司是否有相关配置可以处理以及保证生产安全？谢谢

红 宝 丽董秘：谢谢关注！公司环氧丙烷装置采用异丙苯法新工艺（即CHP法），与共氧化法联产工艺差异很大。

投资者：公司业绩扭亏为盈，下半年业绩是否呈爆发式增长？

红 宝 丽董秘：关于经营业绩互动易平台不拟交流，请关注公司后续的定期报告。谢谢！

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