龙图光罩(688721)答投资者问
21日下午广东省人民政府办公厅印发《广东省加快推动光芯片产业创新发展行动方案》大力推动光刻，刻蚀等细分领域发展。贵公司加上珠海新增产能有多少台光刻机？公司在光刻模具上有哪些技术壁垒？如何把握相关机遇提升珠海新建基地工艺制程有无进一步引进先进光刻机计划？
尊敬的投资者，您好！公司珠海子公司项目将提升公司半导体掩模版的技术水平，加快更高制程掩模版（130nm-65nm节点）的研发和量产，进一步扩大产能规模，公司已相应购置了配套的包括光刻机在内的全流程生产设备。关于光刻机的具体数量及重大投资请关注公司后续的相关公告。半导体掩模版的生产涉及CAM、光刻、检测三个主要环节，具体包括版图处理、图形补偿、曝光、显影、刻蚀、清洗、缺陷检验、缺陷修补、参数测量贴光学膜等多项复杂工艺，对补偿算法、制程能力、精度水平、缺陷管控具有严格要求，技术壁垒较高。公司通过自主研发，已储备电子束光刻、PSM相移掩模版等一系列先进半导体掩模版关键技术，积累了一定的研究成果，为进一步实现产品工艺技术升级、实现更高制程突破打下了坚实的基础。感谢您对公司的关注！
来源：e互动 答复时间：2024/10/28 9:30:45
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