半导体设备行业点评：SK海力士以钼代钨，设备链如何传导？

（以下内容从爱建证券《半导体设备行业点评：SK海力士以钼代钨，设备链如何传导？》研报附件原文摘录）
投资要点：
事件：SK海力士375层NAND完成验证，钼（Mo）字线导入为关键变量。根据TheElec报道，SK海力士已完成375层3DNAND生产验证，正推进技术向量产线转移，计划于2026年底前实现量产。公司将通过改造清州M15现有NAND产线导入新产品（非新建产能）。
关键变量在于钼材料首次导入字线结构。SK海力士在375层产品中开始以钼部分替代传统钨（W）字线材料，以降低电阻、提升器件性能并适应400层以上超高堆叠结构需求。
钼渗透率在高层数NAND中提升，本质是为延续NAND单位Bit成本下降曲线。
1）300层NAND主要在结构上升级，聚焦超高深宽比通道孔刻蚀、多次Stack堆叠、晶圆翘曲控制以及Overlay精度控制；375层乃至400层以后，材料亟需升级，因钨字线会因为字线间距通道孔缩小面临RC延迟快速恶化、WF?残氟导致介质损伤、漏电失效率提升以及填充缺陷放大的问题。
2）选择钼字线的工艺理由：钨沉积需使用阻隔衬里层，钼不需要阻隔衬里层，可以直接沉积，从而减少成品包裹的厚度和尺寸。然而，钼的材料加工更为复杂，因为必须以气体形式输送，且前驱物在室温下为固体，需要加热器以确保流动稳定性。
3）高层数NAND经济性取决于两个变量：①单位晶圆能够产出多少有效bit，②这些bit能够以多高良率、多少成本被稳定制造。3DNAND向400层演进，单位晶圆可产出存储bit持续增加，但若工艺复杂度和缺陷率上升速度快于存储密度提升速度时，层数增加带来的容量收益将被良率损失和制造成本上升所抵消；钼凭借更低电阻率、无氟前驱体及无需阻隔层等优势，有望改善RC性能与器件可靠性，为字线和存储孔缩放提供工艺余量，从而延续高层数NAND的成本下降曲线。
设备视角的受益节奏：钼导入本质是一次全流程工艺重构，设备链受益有望沿“沉积及前驱体输送→CMP及清洗→刻蚀→量检测”路径传导，工艺难点由沉积向后处理环节延伸。
其中，1)沉积：成熟的WF?钨工艺，Mo沉积需重新建立高深宽比结构下的填充与缺陷控制工艺窗口，同时有望减少阻隔层使用，带动沉积设备及配套工艺升级；2）输送：Mo前驱体通常采用低挥发性固态源，与传统WF?气态前驱体体系差异较大，需要新增气化装置、温控管路及精密供气系统，以保障前驱体稳定输送；3）CMP：Mo材料的氧化及表面化学特性不同于传统金属体系，需重新开发CMP研磨液和研磨垫，以满足平坦化、去除速率及缺陷控制要求；4）清洗：Mo导入后残留物及氧化物体系发生变化，高深宽比结构下金属残留和污染控制难度提升，有望推动相关湿法清洗设备及配套化学品验证导入；5）刻蚀环节则需重新建立适配钼材料的工艺窗口，且3DNAND层数持续提升下，刻蚀选择性、侧壁形貌控制及层间均匀性要求进一步提高，有望带动相关刻蚀设备升级需求；6）量检测：Mo量产还需新增膜厚均匀性、填充缺陷、金属残留及电学可靠性等监控项目，有望带动薄膜量测、缺陷检测及电性测试等设备需求增长。
投资建议：NAND工艺迭代核心从单纯堆叠层数转向材料—设备—工艺协同创新，新材料导入将持续催生沉积、刻蚀、清洗等关键设备迭代升级，Mo字线导入将推动沉积、刻蚀、清洗等关键环节工艺升级，相关设备及零部件厂商有望受益。建议关注1）【沉积设备】拓荆科技（688072.SH）；2）【刻蚀设备】中微公司（688012.SH）、北方华创（002371.SZ）；3）【清洗设备】盛美上海（688082.SH）、芯源微（688037.SH）;4）【量检测设备】精测电子（300567.SZ）、天准科技（688003.SH）以及5）【设备零部件】先锋精科（688605.SH）。
风险提示：高层数NAND量产进度不及预期；Mo材料导入不及预期；设备验证进展不及预期；存储行业景气度波动；技术路线变化风险。