半导体设备行业点评:重视光刻工艺环节的设备与材料

2019年全球光刻机销量359台,同比下降5%,销售额估计为107亿美元,同比增长10%。根据ASML、Cao、Niko季报数据统计,2016-2019年全球光刻机销量依次是245台、298台、379台、359台,2017-2019年依次同比增长22%、27%、-5%;参考ASML光刻机单价推算,我们估计2016-2019年全球光刻机销售额依次是61、75、98、107亿美元,2017-2019年依次同比增长24%、30%、10%。

DUV和和EUV工艺支撑ArFi、EUV光刻机需求强劲。2019年光刻机销量359台,其中EUV26台,ArFi93台,ArFdry35台,KrF91台,i-Lie114台,分别同比增长44%、0%、30%、-19%、-11%,EUV与ArFi销量合计占比1/3,参考ASML光刻机单价推算,2019年光刻机按销售额计算的EUV占28%,ArFi占54%,ArFdry占5%,KrF占10%,i-Lie占3%,EUV与ArFi销售额合计88亿美元占比82%,同比增长15%ASML、、Cao、、Niko市占率依次为89%、、3%、、8%。。2019年按销量计算ASML市占率64%,Cao市占率23%,Niko为13%,ASML和Niko市占率上升;

按销售金额计算ASML的市占率89%,Cao市占率3%,Niko为8%,Niko市占率上升而Cao市占率下降。分产品看,EUV设备市场上ASML市占率保持100%;ArFi市场上ASML市占率88%,Niko市占率12%,ArFdry市场上ASML市占率63%,Niko市占率37%;KrF市场上ASML、Cao、Niko市占率分别为71%、24%、4%,i-Lie三家公司市占率依次是30%、54%、16%;

各类光刻机的竞争格局整体上变化不大。

国产光刻机市占率接近零,上微承担光刻机国产化重任。。根据中国国际招标网对12寸线的统计,CMP、刻蚀设备、清洗设备、PVD设备、热处理设备、去胶设备国产化趋势相对较好,但涂胶显影、量测、离子注入机、CVD等国产化率偏低,光刻机尚未取得零的突破,大陆光刻机市场也被ASML、Cao、Niko垄断。随着类似燕东微、上海积塔、士兰微厦门项目等成熟制程及特色工艺产线的建产,光刻机仍然存在国产化机遇。

大陆涂胶显影设备市场被TEL,垄断,12寸线国产化率接近为0%。据Garter数据,2018年全球涂胶显影设备市场规模约23亿美元,其中东电电子TEL市占率为88%,迪恩士和Semes合计占有10%左右,市场集中度高。根据中国国际招标网统计,TEL在中国大陆的市占率92%,处于绝对垄断地位;

涂胶显影设备国产化率仅为5%。沈阳芯源承担涂胶显影国产化重任,其前道I-lie涂胶显影机已在长江存储上线进行工艺验证;前道Barc(抗反射层)涂胶设备在已在上海华力上线测试应用,可满足客户28m技术节点加工工艺。

掩膜板主要来自日美厂商,国产化之路遥远。根据SEMI,全球掩模板市场规模36亿美元,约占半导体材料的13%左右,掩膜板市场主要被日本TOPPAN、DNP、Photroics、中国台湾光罩等国际品牌垄断,EUV光刻胶。

国产掩膜板供应商主要是路维光电、清溢光电、中芯国际,其中路维光电主要经营面板、IC封装、PCB等掩膜板,清溢光电前五大客户主要是BOE、天马、华星光电等面板企业,其IC掩膜板与国际厂商还有很大差距。

国产光刻胶也有布局。。2018年全球光刻胶市场规模17亿美元,主要被JSR、东京应化、富士电子材料、信越化学等日本企业垄断。国产从事光刻胶研发和生产的企业包括北京科华微电子、江苏瑞红电子、南大广电、上海新阳(子公司上海芯刻微材料)等。