石化化工行业:关键电子化学品系列报告之光刻胶,雄关漫道真如铁

核心观点:

光刻胶是半导体集成电路制造的核心材料

光刻胶的质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的35%,并且耗费时间约占整个芯片工艺的40%-60%。因此光刻胶是半导体集成电路制造的核心材料。

光刻胶有着极高的技术壁垒

光刻胶有着极高的技术壁垒,目前国内差距跟全球先进水平有着极大的差距,应该是几种关键电子化学品当中差距最大的一种。北京科华和苏州瑞红应该是国内技术比较领先的企业,但其营收依然较小,如苏州瑞红,光刻胶相关的收入规模才8000 万元。

标的首选光刻胶三朵花(苏州晶瑞、南大光电和强力新材)

上市公司标的首选光刻胶三朵花(苏州晶瑞、南大光电和强力新材)。从上市公司的标的来看,苏州晶瑞(拟上市公司)持有苏州瑞红54.6%的股权,南大光电持有北京科华31.4%的股权,应该说这是最佳的标的(因为北京科华和苏州瑞红应该是最有希望突破技术壁垒的)。强力新材虽然不直接涉及光刻胶的生产,主业是从事光刻胶的原料生产,但已经进入了国际供应链体系。

能够分享光刻胶行业成长的红利,也值得重点关注。

跨国并购和建立共享的国家级光刻胶研发平台是解决之道破解这一难题的有效方法有两个:第一是建立共享的国家级光刻胶研发平台。由国家投入资金统一采购相关的光刻机设备,相关的企业可以提出使用时段的申请,大大降低了企业的资金门槛,可以专注于光刻胶材料体系的研发。第二是并购。跨国并购是快速获取技术的有效手段,我们筛选出了6 家市值在100 亿人民币以下的国际光刻胶企业,建议国内上市公司关注,他们分别是台湾长兴化学、日本东京应化、日本东洋油墨、日本ADEKA、韩国锦湖化学。