核心观点:
光刻胶是半导体集成电路制造的核心材料。
光刻胶的质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的 35%,并且耗费时间约占整个芯片工艺的 40%-60%。因此光刻胶是半导体集成电路制造的核心材料。
光刻胶有着极高的技术壁垒。
光刻胶有着极高的技术壁垒,目前国内差距跟全球先进水平有着极大的差距,应该是几种关键电子化学品当中差距最大的一种。北京科华和苏州瑞红应该是国内技术比较领先的企业,但其营收依然较小,如苏州瑞红,年收入规模才8000万元。
标的首选光刻胶三朵花(苏州晶瑞、南大光电和强力新材)。
上市公司标的首选光刻胶三朵花(苏州晶瑞、南大光电和强力新材)。从上市公司的标的来看,苏州晶瑞(拟上市公司)持有苏州瑞红54.6%的股权,南大光电持有北京科华31.4%的股权,应该说这是最佳的标的(因为北京科华和苏州瑞红应该是最有希望突破技术壁垒的)。强力新材虽然不直接涉及光刻胶的生产,主业是从事光刻胶的原料生产,但已经进入了国际供应链体系。能够分享光刻胶行业成长的红利,也值得重点关注。
跨国并购是快速获取技术的有效手段,建议关注。
跨国并购是快速获取技术的有效手段,我们筛选出了6家市值在100亿人民币以下的国际光刻胶企业,建议国内上市公司关注,他们分别是台湾长兴化学、日本东京应化、日本东洋油墨、日本ADEKA、韩国锦湖化学。
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