前道涂胶显影市场迎重磅新玩家，盛美上海（688082.SH）集齐五大产品系列跻身平台级企业

（原标题：前道涂胶显影市场迎重磅新玩家，盛美上海（688082.SH）集齐五大产品系列跻身平台级企业）

盛美上海(688082.SH)再次向市场展示了其强大的研发实力。

11月18日，盛美上海在科创板上市一周年这个特殊的日子里，推出了里程碑式的新产品：前道涂胶显影Track设备Ultra LITH，这标志着盛美上海正式进入了半导体前道涂胶显影领域。

自2021年上市以来，仅一年的时间内，盛美上海便陆续发布了7款新产品，涉及了半导体及新型化合物半导体制造工艺的电镀、清洗、薄膜沉积等多个环节，而此次的涂胶显影Track设备，已是年内的第8款新品。

更为关键的是，此次前道涂胶显影Track设备的推出，无论是对光刻产业亦或是对盛美上海自身而言，都具有重大意义。

从光刻产业来看，涂胶显影在前道晶圆制造的光刻环节中发挥着重要作用，是光刻机的输入和输出端，与光刻机配合工作，在曝光前进行光刻涂胶覆盖，在曝光后进行图形的显影。据Gartner数据显示，2021年，全球的涂胶显影设备市场规模将达37亿美元，据此推算，中国市场规模已达40亿人民币。

但整个市场呈现出一家独大的局面。目前，业内厂商主要有东京电子(TEL)、日本迪恩士(DNS)、德国苏斯微(SUSS)、台湾亿力鑫(ELS)和国内的芯源微。其中，仅东京电子一家便占据了全球88%和中国91%的涂胶显影设备市场份额，下游制造商迫切希望能有更多的选择。

特别是在国内市场，半导体设备国产替代已是大势所趋，但国内涂胶显影设备市场制造商稀少，国产化率不足5%，涂胶显影设备的国产替代情势严峻。而盛美上海最新推出的Ultra LITH设备可谓是恰逢其时。

从盛美上海自身的发展来看，涂胶显影Track设备是公司继半导体清洗设备、半导体电镀设备、先进封装湿法设备、立式炉管设备四大产品系列外的又一新产品系列。在五大系列产品的支持下，盛美上海已然成为国内平台级的半导体设备制造商。

这对于以单一的清洗设备起家的盛美上海而言，无疑是巨大的突破。盛美上海表示，公司将在2022年内再推出一款新产品，届时，公司产品组合对应的市场空间将从80-90亿美元提升至160-180亿美元，这是2021年全球清洗设备市场总规模的4.5倍，这将为盛美上海在长期维度上取得持续高成长的业绩打下坚实基础。

若复盘盛美上海的发展历史不难发现，打造差异化的优质产品是其成长为国内半导体设备领先企业的关键，这一显著特征亦在此次发布的前道涂胶显影Track设备中有明显体现。

智通财经APP了解到，Ultra LITH专为300毫米晶圆而设计，共有4个适用于12英寸晶圆的装载口，8个涂胶腔体、8个显影腔体，腔体温度可精准控制在23°C ±0.1°C ，烘烤范围为50°C至250°C，晶圆破损率低于1/50000，支持包括i-line、KrF和ArF系统在内的各种光刻工艺。

与市场中其他采用水平式架构的竞品不同，盛美上海的Ultra LITH采用的是垂直交叉架构，形成差异化的竞争优势。基于该全球专利申请保护的全新架构，Ultra LITH可支持拓展至12个涂胶腔体及12个显影腔体，每小时晶圆产能可达300片，将来在配备更多的涂胶和显影腔体的条件下还能达到每小时400片以上的产能。

除此之外，Ultra LITH还具备了多个技术优势。在后道封装多年积累的涂胶显影技术的基础上盛美上海为该设备配备了稳定的电控架构及强大的软件系统，这在高精度要求的光刻环节尤为重要;同时，搭载了高速稳定的机械手系统，多机械手协同配合，可实现晶圆传输路径的优化，提高传输效率。

设备内部的气流分布进行了优化处理，可减少颗粒污染，强大的清洗技术亦可支持未来浸没式光刻机对硅片背面的颗粒清洗需求。且分区控制的高精度热板由公司自主研发，已达到业界先进水平。

盛美上海表示，Ultra LITH设备适配性强，支持主流的光刻机接口，第一台设备出货便可进行与光刻机的对接测试。公司将于几周后向中国国内的逻辑客户交付首台ArF工艺的前道涂胶显影Track设备，并将于2023年推出i-line型号设备。此外，公司已开始着手研发KrF型号的设备。

在客户验证时间方面，基于设备的成熟度，通常是在一年至一年半左右，验证成功后，便可接获重复订单。鉴于全球市场对涂胶显影设备的强劲需求，盛美上海将在多客户之间进行平行验证，这有望显著提高Ultra LITH设备的放量速度。

可以预见，自2024年开始，涂胶显影设备将成为盛美上海未来业绩成长的新增长曲线之一，这将在公司的财报中逐渐体现。