2月19日，资本邦了解到，拓荆科技股份有限公司(以下简称“拓荆科技”)拟首次公开发行股票并上市，于2021年1月28日与招商证券股份有限公司签订了《辅导协议》，已向辽宁监管局提交了上市辅导材料。
拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是由海外专家团队和中科院所属企业共同发起成立的国家高新技术企业，专业从事高端半导体薄膜设备的研发、生产、销售与技术服务。
公司拥有12英寸PECVD(等离子体化学气相沉积设备)、ALD(原子层薄膜沉积设备)、3DNANDPECVD(三维结构闪存专用PECVD设备)三个系列产品，产品应用于集成电路前道和后道、TSV封装、光波导、LED、3D-NAND闪存、OLED显示等高端技术领域。
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