(原标题:台积电年报首度提及2nm技术 去年开始研发)
4月24日消息,据台湾媒体报道,台积电近日上传了2019年年报,并在年报中首度提及2nm技术。
在2018年年报中,台积电的表述为,公司3nm技术已进入全面开发阶段,而3nm以下的技术已开始定义并密集进行先期开发。
在2019年年报中,台积电表示,当台积电公司采用三维电晶体之第六代技术平台的3nm技术持续全面开发时,公司已开始开发领先半导体业界的2nm技术,同时针对2nm以下的技术进行探索性研究。
关于3nm制程技术,台积电表示,相较于5nm制程技术,3nm制程技术大幅提升晶片密度及降低功耗并维持相同的晶片效能。2019年,台积电的研发着重于基础制程制定、良率提升、电晶体及导线效能改善以及可靠性评估。台积电表示,今年将持续进行3nm制程技术的全面开发。
台积电未详细介绍2nm制程技术。
关于微影技术,台积电表示,去年,微影技术研发的重点在于5nm的技术转移、3nm技术的开发及2 nm以下技术开发的先期准备。5nm技术已经顺利地移转,研发单位与晶圆厂合作排除极紫外光微影量产问题。
针对3nm技术的开发,极紫外光(EUV)微影技术展现优异的光学能力,与符合预期的晶片良率。研发单位正致力于极紫外光技术,以减少曝光机光罩缺陷及制程堆叠误差,并降低整体成本。
今年,台积电将在2nm及更先进制程上将着重于改善极紫外光技术的品质与成本。
台积电成立于1987年,是全球最大的晶圆代工半导体制造厂,客户包括苹果、高通等。其总部位于台湾新竹的新竹科学工业园区。台积电公司股票在台湾证券交易所上市,股票代码为2330,另有美国存托凭证在美国纽约证券交易所挂牌交易,股票代号为TSM。