(原标题:中国成功研制超分辨率光刻机 相关公司受关注)
中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目通过验收,这个项目最主要的成果就是中国科学家研发成功世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻机,365nm波长即可生产22nm工艺芯片,通过多重曝光等手段可以实现10nm以下的芯片生产。光刻机是半导体制造业中最核心的设备。南大光电参股的北京科华是国内光刻胶领域的龙头企业。晶瑞股份是国内稀缺的实现了IC制造商使用的i线光刻胶量产的企业。