华海清科获得发明专利授权：“晶圆抛光系统、晶圆抛光方法以及晶圆抛光控制系统”

证券之星消息，根据企查查数据显示华海清科（688120）新获得一项发明专利授权，专利名为“晶圆抛光系统、晶圆抛光方法以及晶圆抛光控制系统”，专利申请号为CN202311635587.9，授权日为2026年11月6日。

专利摘要：本申请公开了一种晶圆抛光系统、晶圆抛光方法以及晶圆抛光控制系统，晶圆抛光系统包括：晶圆抛光装置、回收装置；晶圆抛光装置包括：抛光盘组件、至少三个抛光头以及与抛光头一一对应的供液组件，抛光头用于在抛光盘组件上对晶圆进行抛光，供液组件用于为抛光头供给抛光液；抛光盘组件还包括设置在中心的回液孔，用于与回收装置连通；回收装置包括：过滤器，用于对回收的抛光液进行过滤；调制桶，用于对过滤后的抛光液进行调制，以再次将抛光液传输至供液组件。本申请提供的方案，可以减少抛光盘组件中心积累的抛光液，提高抛光精度，并节省了抛光液成本。

今年以来华海清科新获得专利授权99个，较去年同期增加了22.22%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了2.75亿元，同比增12.59%。

通过天眼查大数据分析，华海清科股份有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目337次；财产线索方面有商标信息93条，专利信息896条，著作权信息39条；此外企业还拥有行政许可38个。

数据来源：企查查

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