芯源微获得实用新型专利授权：“涂胶显影装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示芯源微（688037）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“涂胶显影装置”，专利申请号为CN202522523337.7，授权日为2026年10月30日。

专利摘要：本实用新型提供一种涂胶显影装置，包括第一工艺模块、层间模块和第二工艺模块。第一工艺模块包括N个第一工艺层，N为大于4的正整数，每层设有第一工艺机械手及对称分布的正偶数个第一工艺单元，用于执行涂胶、显影或光学检测工艺；第二工艺模块包括N个第二工艺层，每层设有第二工艺机械手及对称布置的M个第二工艺单元，用于执行烘烤或边缘曝光工艺；层间模块位于两者之间，设有层间机械手和层间制冷单元，可将经第二工艺模块处理后的晶圆降温至预设温度。该装置通过多层对称布局实现双列并行处理，提升产能；层间制冷单元保障晶圆返回第一工艺模块前的温度稳定性，满足高精度光刻工艺要求。该装置用于提高工艺一致性与设备吞吐量。

今年以来芯源微新获得专利授权42个，较去年同期减少了8.7%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了1.38亿元，同比增4.27%。

通过天眼查大数据分析，沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目386次；财产线索方面有商标信息49条，专利信息724条，著作权信息112条；此外企业还拥有行政许可81个。

数据来源：企查查

以上内容为证券之星据公开信息整理，不构成投资建议。

相关 ETF