中微公司获得发明专利授权：“一种化合物的用途、刻蚀方法及等离子体处理装置”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种化合物的用途、刻蚀方法及等离子体处理装置”，专利申请号为CN202210976155.3，授权日为2026年10月23日。

专利摘要：本发明公开了一种化合物的用途、刻蚀方法及等离子体处理装置，所述化合物用于基片的等离子体刻蚀，其通式为：R1R2C＝CR3R4；式中，所述的R3、R4各自独立地选自C1?5的直链或支链烷烃基；所述的R1、R2各自独立地选自F或H；R3和R4的空间位阻大于R1和R2。本发明将现有的新型刻蚀气体的同分异构体作为刻蚀气体应用于高深宽比的介质刻蚀过程中，该刻蚀气体经过裂解和链式反应后，生成的聚合物粘性适中，能有效地为掩膜和侧壁提供保护，同时不影响刻蚀速率，扩大了工艺窗口，表现出优异性能。本发明还给出了刻蚀气体的结构与掩膜保护、侧壁保护和刻蚀速率的关系，在本发明的基础上，可以根据不同刻蚀工艺的需要，选择其他合适的刻蚀气体搭配使用。

今年以来中微公司新获得专利授权133个，较去年同期增加了1.53%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了13.1亿元，同比增17.31%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了31家企业，参与招投标项目94次；财产线索方面有商标信息131条，专利信息1760条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可89个。

数据来源：企查查

以上内容为证券之星据公开信息整理，不构成投资建议。