蓝特光学获得发明专利授权：“采用深度强化学习的晶圆光刻工艺参数智能优化方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示蓝特光学（688127）新获得一项发明专利授权，专利名为“采用深度强化学习的晶圆光刻工艺参数智能优化方法”，专利申请号为CN202610219009.4，授权日为2026年10月23日。

专利摘要：本发明公开了采用深度强化学习的晶圆光刻工艺参数智能优化方法，涉及晶圆光刻技术领域。该方法包括：采集待光刻晶圆的版图特征，配置曝光精度权重与曝光窗口权重；进行曝光参数优化，获得最优曝光参数及其对应的预测关键尺寸偏差与工艺窗口评分；根据优化过程中的关键尺寸偏差分布与工艺窗口评分分布，对曝光窗口权重进行调整，生成后烘保真度权重与后烘均匀性权重；进行后烘参数优化，获得最优后烘参数；最终按照最优曝光参数与最优后烘参数执行晶圆光刻。本发明通过深度强化学习实现了曝光与后烘参数的协同全局优化，能够自适应不同版图复杂度，提升了关键尺寸一致性、工艺窗口宽容度与光刻工艺的整体稳定性。

今年以来蓝特光学新获得专利授权3个，较去年同期减少了62.5%。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了7669.86万元，同比增36.4%。

通过天眼查大数据分析，浙江蓝特光学股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目89次；财产线索方面有商标信息9条，专利信息109条，著作权信息10条；此外企业还拥有行政许可33个。

数据来源：企查查

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